Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза...

Main
Physics - Plasma Physics
Пучки ионов и атомов для управляемого...

Пучки ионов и атомов для управляемого термоядерного синтеза и технологических целей

Габович М.Д., Плешивцев Н.В., Семашко Н.Н.

0 / 0

Avez-vous aimé ce livre?

Quelle est la qualité du fichier téléchargé?

Veuillez télécharger le livre pour apprécier sa qualité

Quelle est la qualité des fichiers téléchargés?

Catégories:

Physics - Plasma Physics

Année:

1986

Editeur::

Энергоатомиздат

Langue:

russian

Pages:

250

Fichier:

DJVU, 6.11 MB

IPFS:

,

russian, 1986

Télécharger (djvu, 6.11 MB)

La conversion en est effectuée

La conversion en a échoué

Cela peut vous intéresser

Дюдерштадт Дж., Мозес Г. (Duderstadt,Moses) — Инерциальный термоядерный синтез

Майссел Л., Глэнг Р. — Технология тонких пленок (справочник)

Арифов У. — Сорбционные процессы при взаимодействии заряженных частиц с поверхностями твердых тел [Текст]

— Итоги науки и техники. Физика плазмы

Поут Дж.М. (ред) — Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками

Орликов Леонид Николаевич — ТЕХНОЛОГИЯ МАТЕРИАЛОВ И ИЗДЕЛИЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ Учебное пособие Часть 1

Майссел Леон, Под редакцией Л.Майссела, Р.Глэнга. Перевод с английского Под редакцией М.И.Елинсона, Г.Г.Смолко. — Технология тонких пленок. Справочник

Под ред. Дж.М. Поута и др.; Пер. с англ. Н.К. Мышкина и др.; Под ред. А.А. Углова — Модифицирование и легирование поверхности лазерными, ионными и электронными пучками

Романовский Е.А., Коваль А.Г., Мельничук И.А., Борисов А.Г., Бажин А.И., Рыжов В.Н., Дробнич В.Г., Медведев С.Ю., Поп С.С., Есаулов В.А., Петухов В.П., Мирахмедов М.Н., Шароди И.С., Бандурин Ю.А., Белых Л.С., Дащенко А.И., Грицына В.В. И др. — Взаимодействие ионов с поверхностью. Материалы XII международной конференции 5-8 октября 1995 г. Том 2

Габович М Д — Физика и техника плазменных источников ионов

Гасанов И.С. — Плазменная и пучковая технология

Кузнецов Г.Д., Кушхов А.Р. — Ионно-плазменная обработка металлов. Курс лекций.

Орликов Л.Н. — Технология материалов и изделий электронной техники (часть 1)

Плешивцев Н.В. — Катодное распыление

Аксенов А.И., Носков Д.А. — Процессы лазерной и электронно-ионной технологии

Пранявичюс Л., Дудонис Ю. — Модификация свойств твёрдых тел ионными пучками

Удовиченко С.Ю. — Пучково-плазменные технологии для создания материалов и устройств микро - и наноэлектроники. Часть 2-я

Удовиченко С.Ю. — Пучково-плазменные технологии для создания материалов и устройств микро - и наноэлектроники. Часть 3-я

Григорьев Ф.И. — Ионно-плазменная обработка полимерных материалов в технологии микроэлектроники

Бобыль А.В., Карманенко С.Ф. — Физико-химические основы технологии полупроводников

Плешивцев Н.В. — Физические проблемы катодного распыления

Колесник В.П., Колесник В.В. — Технологические генераторы плазмы

Григорьев Ф.И. — Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники

Петухов В.Ю., Гумаров Г.Г. — Ионно-лучевые методы получения тонких пленок

Бажин А.И. Плешивцев Н.В., — Физика воздействия ионных пучков на материалы

Колесник В.П., Колесник В.В. — Проектирование плазменных технологических установок

Достанко А.П. и др. — Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые

Remnev G.E., Isakov I.F., Opekounov M.S., Matvienko V.M., Ryzhkov V.A., et al. — Мощный ионный пучок и его промышленное применение

Bystritskii V., Garate E., Grigoriev V., Kharlov A., Lavernia E., Peng X. — Применение мощного ионного пучка для перемешивания титановой пленки с алюминиевой подложкой

Bayazitov R., Batalov R., Nurutdinov R., Shustov V., Gaiduk P., Dezsi I., Kotai E. — Распределение железа имплантированного в кремний при действии мощного ионного пучка и лазерного излучения

Xin J.P., Zhu X.P., Lei M.K. — Распределение по времени, в зависимости от времени полета, энергии осажденной ионами на металлической мишени при облучении ее мощным ионным пучком в биполярном режиме

Петров А.А. — Электронная и ионная спектроскопия материалов и структур микро - и оптоэлектроники

Достанко А.П. и др. — Электрофизические процессы и оборудование в технологии микро - и наноэлектроники

Орликов Л. Н. — Исследование процесса ионной обработки материалов

Орликов Л. Н. — Исследование процесса ионной обработки материалов

Волков А. В. — Исследование технологических режимов плазменного ионно-химического травления на установке "Caroline PE15" [Электронный ресурс] : электрон. учеб.-метод. пособие

Mots Clefs